明視野晶圓缺陷檢測系統
Accretech Win-Win 50
Accretech Win-Win 50是基於最新發展的光學技術、高速影像處理系統與非常精確控制的晶圓台面而成。它可處理大至300公釐的晶圓。
 |
- Confocal光學可提供較高的解析度, 且不易受來自下層之成像影響, 進而提高表面層檢測之靈敏度
- 通用模式可提供在記憶體區域內, 比傳統晶粒對晶粒模式更高的靈敏度
- RDC提供有效的缺陷分類，由於是以自定規則為主之演算法設計, 故操作簡便
- 高精確度的晶圓台面控制, 可提供較佳的檢驗後缺陷再檢測
銷售服務地區：台灣、大陸 |
|
深紫外線晶圓檢驗系統
Accretech HA-3000
Accretech HA-3000系統是下一世代深紫外線光學檢驗系統，可檢測90奈米、65奈米甚至45奈米世代產品的奈米大小之圖案晶圓缺陷檢測。
|
- 266奈米雷射照明可在ArF光阻材料提供較高的影像對比度
- Hybride模式可提供在記憶體單元裡, 比對傳統晶粒對晶粒模式更高的靈敏度
- SR光學可透過極化技術提供較高的影像品質
- LIM演算法可減少來自不同晶粒與不同氧化物厚度間的色度變化所導致的雜訊
銷售服務地區：台灣、大陸
|
|
深紫外線晶圓檢驗系統
Hitachi HA-3000
Hitachi HA-3000 系統是下一世代深紫外線光學檢驗系統，可檢測90奈米、65奈米甚至45奈米世代產品的奈米大小之圖案晶圓缺陷檢測。
|
- 266奈米雷射照明可在ArF光阻材料提供較高的影像對比度
- Hybride模式可提供在記憶體單元裡, 比對傳統晶粒對晶粒模式更高的靈敏度
- SR光學可透過極化技術提供較高的影像品質
- LIM演算法可減少來自不同晶粒與不同氧化物厚度間的色度變化所導致的雜訊
銷售服務地區: 台灣
|
|
缺陷再檢測SEM系統
Hitachi RS-4000
Hitachi RS-4000缺陷再檢測SEM檢測台基於Hitachi的CD SEM經驗在90奈米與甚至65奈米世代產品可提供受檢測缺陷的高速與高精確度SEM影像。
|
- 同時能有4個影像補捉 (二次電子、左視與右視與電壓對比)
- ADC缺陷分類系統
- 透過RI-1000能有效取樣，減少檢測時間
銷售服務地區：台灣 |
|
電子束晶圓檢測系統
Hitachi I-6300
Hitachi I-6300系統整合了Hitachi在電子束與檢測方面的專業，提供穩定與高靈敏度電子束檢驗系統。
|
- 提供正電壓與負電壓之最佳影像比對結果 (傳統方法使用正電壓)
- 在檢測台旋轉後，無需聚焦與校準
- 高速與高靈敏度檢驗
銷售服務地區：台灣
|
|
|
|
明視野晶圓檢驗系統
深紫外線光源晶圓檢驗系統
缺陷再檢測SEM系統
電子束檢驗系統
台灣:
Sandy_Lai@spirox.com.tw
Tel. +886 3 573 8099 ext. 5019
大陸:
Jessica_Chew@spirox.com.tw
Tel. +86 21 6108-1858
|
