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化學機械研磨機
Accretech ChaMP
Accretech ChaMP是Accretech整合其在精密量測設備和半導體製程設備發展累積的專精技術, 所開發和生產的化學機械研磨設備. "ChaMP系列"為300mm的製程設備，適用於90奈米和65奈米的先進製程, 其製程能力已和業界領導廠商的設備並駕齊驅。

獨特的研磨頭設計"Sylphide", 能有效達成高度的薄膜均一性, 降低損壞, 提供較佳的晶圓邊緣輪廓線控制能力
白光終點偵測器 (EPD) 可達成精確的殘餘薄膜厚度控制
高晶圓產出率, 提高了生產力
維修容易，降低設備維修的時間和成本
彈性的機台配置, 可有效提高研磨效率

銷售服務地區：台灣

氣體流量控制器
Brooks Automation SENTRY 1000
Brooks Automation SENTRY 1000系統可制提供潔淨室排氣波動的動態控制。SENTRY 1000是根據製程設定來建置電子控制, 此獨特控制方式可提供多點及持續性監控使用者所設定之壓力, 保持潔淨室氣體流量的穩定性。

半導體處理工具的使用點式排氣控制挑戰的最佳解決方案。
設計用於大流量或靜態壓力(真空)的處理控制，此技術可避免來自主排氣系統的波動影響。

銷售服務地區：台灣

單一晶片式熱傳導式化學氣相沉積系統
Eugene BlueJay M1000
Eugene BlueJay M1000是應用於薄膜沉積的熱製程, 單一晶片式低壓化學氣相沉積集束型製程設備，已經業界肯定可靠度和製程能力的Bluejay M100系列(200mm應用)為基礎設計。Bluejay M1000為300mm晶圓製造設備, 適用於90奈米與65奈米的先進製程, 並已獲國際半導體大廠的採用, 用於深次微米晶圓製造

獨立式的雙重區域溫度控制, 可提供優異的薄膜厚度均一性
可於4分鐘內以低於730°C的溫度完成製程, 提供低於爐管的熱預算
以CFD模型為基礎的製程氣體分佈設計, 可有效降低微粒子的產生可適用於多種不同薄膜沉積

銷售服務地區：台灣、新加坡

轉子/再磨光旋轉清洗乾燥機
C&J Engineering / Sitek Refurbished Semitool 870, 880, 4300
用於旋轉清洗乾燥機的替換轉子的設計與製造。


銷售服務地區：新加坡

乾燥真空泵
Kashiyama SDE / HC / KMB / SD Series
Kashiyama乾燥真空泵產品已獲得先進技術工業客戶的信賴，尤其是半導體製造業者。不僅擁有高品質的真空技術，並且已成為半導體製造的標準設備。可信度已高度獲得許多客戶讚賞。


銷售服務地區：新加坡

化學機械研磨機
氣體流量控制器
單一晶片式熱傳導式化學氣相沉積系統
 轉子/再磨光旋轉洗滌乾燥機
 乾燥真空泵

台灣:
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新加坡:
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